Iparági hírek
-
Az új SiC polírozó technológia 10-szeresére növeli a hatékonyságot!
A japán Ritsumeikan Egyetem kutatócsoportja kifejlesztett egy új elektrokémiai mechanikai polírozási (ECMP) technológiát, amely megközelítőleg 15 μm/óra anyageltávolítási sebességet ért el, jelentősen javítva a SiC polírozást.
11-07-2024