hírek

Az alumínium-oxid kerámia rudak nagy tisztaságú alumínium-oxidból (Al2O3) készült rúd alakú termékek, és széles körben használják különféle ipari területeken. Kivételes fizikai, kémiai és mechanikai tulajdonságaiknak köszönhetően extrém körülmények között is kiválóak, beleértve a magas hőmérsékletet, nagy nyomást és kémiai korróziót.

Az AlN kerámiák különböző formái közül a tükörcsiszolt AlN kerámialapok kiemelkednek felületi simaságuk, fokozott síkosságuk és pontos mérettűrésük miatt. Ezek a tulajdonságok jelentősen javítják az anyag funkcionális teljesítményét, így előnyben részesítik a nagy pontosságot, megbízhatóságot és esztétikai minőséget igénylő alkalmazásokhoz.

A modern iparban a dugattyúk az erőátvitel és a tömítés kritikus elemeiként szolgálnak, így az anyagválasztás elengedhetetlen a berendezés teljesítménye és hosszú élettartama szempontjából. A cirkónium-kerámia dugattyúk és a fémdugattyúk két gyakori lehetőség, mindegyiknek megvannak a maga előnyei és hátrányai.

A cirkónium-oxid kerámiák hosszú távú használat során elöregedhetnek, ami hatással lehet teljesítményükre és esztétikájukra. Ez a cikk számos módszert mutat be a cirkónium-oxid kerámiák öregedésének megelőzésére, amelyek segítenek megőrizni tartós szépségüket.

A cirkónium-kerámia dugattyúkat számos iparágban széles körben használják nagy szilárdságuk, kiváló kopásállóságuk, kémiai stabilitásuk és alacsony súrlódási együtthatójuk miatt.

Az alumínium-oxid kerámiát széles körben alkalmazzák a magas hőmérsékletű iparban, mivel kiválóan ellenáll a magas hőmérsékletnek. Stabil kémiai tulajdonságai, nagy mechanikai szilárdsága és elektromos szigetelése mellett 1800 ℃-ig is ellenáll a magas hőmérsékletnek.

Nemrég a Kyocera bejelentette egy új szilícium-nitrid kerámia anyag kifejlesztését a következő generációs mikrochipek funkcionális tesztelésére. Ez az új anyag fokozott hőtágulási tulajdonságokkal és hajlítószilárdsággal büszkélkedhet, lehetővé téve vékony szilícium-nitrid lemezek előállítását rendkívül szűk érintkezési szondákkal, ami kritikus fontosságú a következő generációs mikrochipek teszteléséhez.

A közelmúltban a KYOCERA áttörő ünnepséget tartott az orvosi implantátumok finom kerámiagyára számára, amely a németországi Stuttgart közelében, Waiblingenben található. Ez a létesítmény a csípőprotézisekhez és más implantációs alkalmazásokhoz használt kiváló minőségű kerámiafejek gyártására specializálódik. A projekt várhatóan jövő év szeptemberére fejeződik be.

A közelmúltban az Alpha HPA, egy ausztrál cég megkezdte a világ legnagyobb egyhelyiségű, ultranagy tisztaságú timföldfinomítójának második ütemének építését.

A QY Research adatai szerint a félvezetőkben használt szilícium-karbid (SiC) kerámiák globális piacának mérete 2023-ban 1,111 milliárd dollár volt. A downstream iparágak merev kereslete miatt az előrejelzések szerint a szilícium-karbid kerámiák piaca 1,578 milliárd dollárra fog növekedni. 2030-ra 5,09%-os összetett éves növekedési rátával (CAGR) 2024 és 2030 között.

A japán Ritsumeikan Egyetem kutatócsoportja kifejlesztett egy új elektrokémiai mechanikai polírozási (ECMP) technológiát, amely megközelítőleg 15 μm/óra anyageltávolítási sebességet ért el, jelentősen javítva a SiC polírozást.

Június 5-én a Nippon Electric Glass Co., Ltd. bejelentette egy üvegkerámia hordozó (GC Core™) kifejlesztését, amely jelentős alkalmazási lehetőségeket kínál a következő generációs félvezető csomagolásban.