hírek

Az alumínium-oxid kerámia csöveket széles körben használják magas hőmérsékletű ipari alkalmazásokban magas hőmérsékleti stabilitásuk, kiváló hősokkállóságuk és kiemelkedő tartósságuk miatt. Az egyik leggyakoribb alkalmazási terület a magas hőmérsékletű kemencékben hőkezelésre, szinterezésre és hőelemvédelemre használt kerámia csövek.

Ez a cikk feltárja az alumínium-oxid kerámia vákuum- és elektrosztatikus tokmányok közötti különbségeket, a megfelelő működési elveiket, valamint a félvezetőgyártásban és a precíziós iparban való alkalmazásukat.

A fejlett kerámiák nagy teljesítményű jellemzői nélkülözhetetlenek az otthoni robotok fejlesztéséhez. A mozgást fokozó kerámia csapágyaktól a tisztítási hatékonyságot optimalizáló kerámia pengékig és az elektronikai alkatrészeket védő alumínium-nitrid kerámia hordozókig.

A szilícium-karbid (SiC) egy sokoldalú anyag, amelyet félvezető alkalmazásokhoz és kopásálló alkatrészekhez egyaránt használnak. A SiC Wafer és a szinterezett szilícium-karbid (SSiC) között azonban alapvető különbségek vannak a kristályszerkezet, az elektromos vezetőképesség, a gyártási folyamatok és az alkalmazások tekintetében.

A cirkónia kerámia tűs mérőeszköz nagy pontosságot, kopásállóságot és korrózióállóságot kínál, ideális megmunkálási, elektronikai és vegyiparban. Méretstabilitási és testreszabási lehetőségeivel pontos és tartós mérést tesz lehetővé.

A bór-nitrid kerámia, különösen melegen sajtolt (HPBN) és megmunkálható formáiban, egyedülálló előnyöket kínál, mint például a magas hőmérsékleti stabilitás, a korrózióállóság, az elektromos szigetelés és a könnyű megmunkálhatóság. Ennek azonban vannak korlátai is, beleértve az alacsonyabb mechanikai szilárdságot és a higroszkópos tulajdonságokat. A BN kerámia előnyeinek és hátrányainak megértése kulcsfontosságú az adott ipari alkalmazásokhoz megfelelő anyag kiválasztásához.

2025 elején a KYOCERA Fineceramics Europe GmbH bejelentette, hogy új üzemet létesít Erfurtban, Németországban, bővítve meglévő többhuzalos fűrész-technológiai képességeit és gyártási infrastruktúráját.

December 23-án az olyan sajtóorgánumok, mint a The Economic Times arról számoltak be, hogy a Silectric Semiconductor, a Zoho Corporation leányvállalata létrehozza Karnataka első félvezetőgyártó üzemét Indiában, amely a szilícium-karbid integrált gyártásával foglalkozik.

Nemrég a Kyocera bejelentette egy új szilícium-nitrid kerámia anyag kifejlesztését a következő generációs mikrochipek funkcionális tesztelésére. Ez az új anyag fokozott hőtágulási tulajdonságokkal és hajlítószilárdsággal büszkélkedhet, lehetővé téve vékony szilícium-nitrid lemezek előállítását rendkívül szűk érintkezési szondákkal, ami kritikus fontosságú a következő generációs mikrochipek teszteléséhez.

A közelmúltban a KYOCERA áttörő ünnepséget tartott a németországi Stuttgart melletti Waiblingenben található orvosi implantátumok finom kerámiagyára számára. Ez a létesítmény a csípőprotézisekhez és más implantációs alkalmazásokhoz használt kiváló minőségű kerámiafejek gyártására specializálódik. A projekt várhatóan jövő év szeptemberére fejeződik be.

A közelmúltban az Alpha HPA, egy ausztrál cég megkezdte a világ legnagyobb egyhelyiségű, ultranagy tisztaságú timföldfinomítójának második ütemének építését.

A QY Research adatai szerint a félvezetőkben használt szilícium-karbid (SiC) kerámiák globális piacának mérete 2023-ban 1,111 milliárd dollár volt. A downstream iparágak merev kereslete miatt az előrejelzések szerint a szilícium-karbid kerámiák piaca 1,578 milliárd dollárra fog növekedni. 2030-ra 5,09%-os összetett éves növekedési rátával (CAGR) 2024 és 2030 között.